申请/专利权人：卡尔蔡司工业测量技术有限公司

申请日：2019-01-25

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN111902903B

主分类号：H01J35/08

分类号：H01J35/08

优先权：["20180126 DE 102018201245.8"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2021.01.15#实质审查的生效;2020.11.06#公开

摘要：本发明涉及一种用于侵入性电磁辐射的辐射源（1）的靶（10），该靶包括：至少一个靶元件（20），该至少一个靶元件被配置用于在用粒子照射后生成侵入性电磁辐射、并且联接至基材装置（28）以从该靶元件耗散热量，其中，该靶元件（20）具有形成该靶元件（20）的外表面的第一部分的外围表面，其中，该靶元件（20）的外表面另外由该靶元件（20）的侧表面（38）形成，其中，该侧表面（38）的范围限定该靶元件（20）的厚度（D），其中，该侧表面（38）的外围线形成该外围表面的边际线，其中，该靶（10）具有端面（22），作为该端面的一部分，该靶元件（20）的侧表面（38）以暴露的方式布置以被所述粒子照射，并且其中，该基材装置（28）与该外围表面相接触。

主权项：1.一种用于呈X射线辐射形式的侵入性电磁辐射的辐射源1的靶10，包括至少一个靶元件20，该至少一个靶元件被配置用于在用粒子照射时生成侵入性电磁辐射并且该至少一个靶元件联接至基材装置28以从该靶元件20耗散热量，其中，该靶元件20具有形成该靶元件20的外表面的第一部分的外围表面，其中，该靶元件20的外表面另外由该靶元件20的侧表面38形成，其中，该侧表面38的范围限定该靶元件20的厚度D；D1，D2，D3，其中，该侧表面38的外围线形成该外围表面的边际线，其中，该靶10具有端面22，作为该端面的一部分，该靶元件20的侧表面38以暴露的方式布置以用所述粒子照射，其中，该基材装置28与该外围表面相接触，并且其中，该靶元件20以层状的方式构成；其特征在于，该靶元件20具有比该厚度D更大的宽度B，其中，该外围线的总长度由该厚度D并由该宽度B限定，其中，该基材装置在该外围表面的在该厚度D的方向上彼此相对的侧面处与该外围表面相接触，并且其中，该层状靶元件20的厚度D在该侧表面38处随着在该宽度B的方向上的范围增大而增大。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 用于辐射源的靶及其产生方法和辐射源及其用途

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