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【发明授权】一种晶片抛光用抛光液及其制备方法_安徽禾臣新材料有限公司_202210884062.8 

申请/专利权人:安徽禾臣新材料有限公司

申请日:2022-07-26

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN115386297B

主分类号:C09G1/02

分类号:C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.26#授权;2022.12.13#实质审查的生效;2022.11.25#公开

摘要:本发明涉及一种晶片抛光用抛光液及其制备方法,抛光液包括抛光粉、去离子水、氧化剂、分散剂和pH调节剂,制备方法包括如下步骤:按照重量百分比将氧化剂加入去离子水中,然后加入抛光粉和分散剂,加入去离子水至所需体积,用pH调节剂调节pH值为4‑6,磁力搅拌10min,得到抛光液,本发明中制备了一种抛光粉,自制的改性剂在三氟乙酸的催化作用下,在磨粒表面发生溶胶‑凝胶反应,修饰后,抛光液的稳定性得到提高。制备的抛光粉不易发生团聚,加工表面不易产生划痕,抛光粉与晶片的总接触面积高,提高了抛光效率。

主权项:1.一种晶片抛光用抛光液,其特征在于,包括抛光粉、去离子水、氧化剂、分散剂和pH调节剂;所述抛光粉通过如下步骤制备:步骤一、在温度为0℃条件下,将支化单体和二氯甲烷混合,然后加入三乙胺和4-二甲氨基吡啶,然后滴加2-溴异丁酰溴,滴加过程中控制滴加速度,维持温度不超过5℃,滴加结束后,保持温度不变,搅拌2h,然后升温至20℃,继续搅拌反应16h,得到改性单体;支化单体、三乙胺、4-二甲氨基吡啶和2-溴异丁酰溴的用量比为1g:0.5mL:50mg:0.5g;步骤二、在氮气保护条件下,将改性单体、甲基(3-异丙氧基硅基)丙基丙烯酸酯加入苯甲醚中,加入吡啶,搅拌分散,然后加入溴化亚铜和氯化亚铜,搅拌分散后,升温至80℃,搅拌反应5h,得到改性剂;改性单体、甲基3-异丙氧基硅基丙基丙烯酸酯、吡啶、溴化亚铜和氯化亚铜的用量比为1g:0.5g:50mg:10mg:20mg;步骤三、将磨粒加入甲苯中,超声分散10-20min,然后加入改性剂和四氢呋喃,在温度为20℃条件下搅拌分散1h,然后加入三氟乙酸继续搅拌20-24h,得到抛光粉;将超支化聚醚胺和环氧基笼状倍半硅氧烷和乙醇混合,搅拌分散,在氮气保护条件下加热回流反应24h,得到支化单体;所述超支化聚醚胺和环氧基笼状倍半硅氧烷的质量比为9:1。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 安徽禾臣新材料有限公司 一种晶片抛光用抛光液及其制备方法

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