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【发明授权】一种高分子薄膜修饰的正极极片及其制备方法_天津巴莫科技有限责任公司_202111513829.8 

申请/专利权人:天津巴莫科技有限责任公司

申请日:2021-12-14

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN114220944B

主分类号:H01M4/131

分类号:H01M4/131;H01M4/62;H01M4/1391;H01M4/04;H01M10/0525

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.26#授权;2022.04.08#实质审查的生效;2022.03.22#公开

摘要:本发明提供了一种电聚合高分子薄膜修饰的正极极片及其全固态电池的制备方法。本发明首先采用电聚合方法在正极极片表面修饰一层电聚合高分子薄膜,该方法制备的电聚合薄膜内部有电解质掺杂,离子电导率高,聚合物薄膜有一定的呼吸作用,可以缓和正极材料和固态电解质接触时产生的应力,使得界面稳定,又能增加界面接触效果,降低界面阻抗,综合有机液态电解液和固态电解液的优点,采用本方法制备的固态电池循环性能优异。

主权项:1.一种高分子薄膜修饰的正极极片的制备方法,其特征在于:所述正极极片表面吸附了掺杂有电解质的高分子薄膜,所述高分子薄膜为微孔结构,高分子薄膜厚度为2~300nm,所述高分子薄膜通过电沉积法吸附在正极极片表面;所述电解质吸附在高分子薄膜的表面和微孔中,电解质含量为10~1000ppm;所述制备方法,包括如下步骤:1将15~18g正极材料、0.1~0.5g粘接剂、0.1~0.5g导电剂共同混合,进行高速搅拌匀浆,将分散均匀的浆料过滤后涂布到电极集流体上,再进行烘干、冷压得到初级极片,初级极片经过超声波清洗后即得工作电极;2将0.1~3g高分子聚合物单体、0.2~2.0molL的六氟磷酸四丁基铵TBAPF61~10mL、0.01~2g六氟磷酸锂、0.01~2g电解质加入到有机溶剂中,搅拌均匀形成混合溶液后加入到电解槽中,电解槽中通入惰性气体保护;所述高分子聚合物单体为咔唑、吡咯、噻吩、苯胺中的一种或多种,浓度为0.1~20mgmL;3将步骤1中得到的工作电极以及对电极、参比电极放入步骤2中由惰性气体保护的电解槽中,将电解槽放置于电化学屏蔽箱中,对整体电化学屏蔽箱内部进行惰性气体保护,后将电解槽与电化学工作站相连;4设置步骤3中电化学工作站的扫描参数为:扫描速度为5~400mVs,扫描电压范围为-1~1.4V,扫描5~50周后完成电聚合修饰反应,即得所述高分子薄膜修饰的正极极片。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 天津巴莫科技有限责任公司 一种高分子薄膜修饰的正极极片及其制备方法

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