申请/专利权人：深圳市嘉铭半导体科技有限公司

申请日：2023-09-15

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN220858478U

主分类号：H05H1/24

分类号：H05H1/24;B08B7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权

摘要：本申请涉及一种放电均匀的等离子体清洗腔，包括腔体和门板，门板枢接于腔体上，门板与腔体闭合可形成封闭的内腔；内腔的两侧设有可导电且竖直设置的两个托板；还包括设于内腔中的分别电连接电压两极的第一电极板和第二电极板，第一电极板通过绝缘件水平设于两个托板上，第一电极板用于放置被清洗物；第二电极板水平设于两个托板上且位于第一电极板的上方，第一电极板与第二电极板相间隔以容纳被清洗物，第二电极板的下表面设有竖直向下朝向第一电极板的电极隔板，电极隔板用于伸入到两个被清洗物之间。

主权项：1.一种放电均匀的等离子体清洗腔，其特征在于，包括腔体和门板，门板枢接于腔体上，门板与腔体闭合可形成封闭的内腔；内腔的两侧设有可导电且竖直设置的两个托板；还包括设于内腔中的分别电连接电压两极的第一电极板和第二电极板，第一电极板通过绝缘件水平设于两个托板上，第一电极板用于放置被清洗物；第二电极板水平设于两个托板上且位于第一电极板的上方，第一电极板与第二电极板相间隔以容纳被清洗物，第二电极板的下表面设有竖直向下朝向第一电极板的电极隔板，电极隔板用于伸入到两个被清洗物之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市嘉铭半导体科技有限公司 一种放电均匀的等离子体清洗腔

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