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【发明公布】一种曲面抛光打磨装置中的双轴力控补偿机构_朝华力拓精密(深圳)有限公司_202410058832.2 

申请/专利权人:朝华力拓精密(深圳)有限公司

申请日:2024-01-15

公开(公告)日:2024-04-30

公开(公告)号:CN117943971A

主分类号:B24B41/06

分类号:B24B41/06;B24B41/02;B24B49/00;B24B41/00;B24B47/22

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.30#公开

摘要:本发明公开了一种曲面抛光打磨装置中的双轴力控补偿机构,包括沿Y轴调节的第一微调机构以及沿X轴调节的第二微调机构,第一微调机构包括安装底座、第一滑轨组件,第一滑轨组件上安装有第一承载板,安装底座上安装有第一驱动机构;第二微调机构包括第二滑轨组件以及第三滑轨组件,第二滑轨组件上安装有第一滑台,第三滑轨组件上安装有第二滑台,第一滑台上设有第一斜面,第二滑台上设有第二斜面,第一斜面上安装有斜向导轨,第二斜面上安装有斜向滑块,斜向滑块与斜向导轨滑动配合;第一承载板上安装有第二驱动机构;第二滑台上安装有双轴压力传感器;解决工件在定位后实现多方向受力均匀性,根据工件受压进行YZ轴位置调节。

主权项:1.一种曲面抛光打磨装置中的双轴力控补偿机构,其特征在于:包括沿Y轴调节的第一微调机构以及沿X轴调节的第二微调机构,所述第二微调机构安装在所述第一微调机构上;所述第一微调机构包括安装底座以及间隔设在所述安装底座上的第一滑轨组件,所述第一滑轨组件上安装有第一承载板,所述安装底座上安装有驱动所述第一承载板滑动的第一驱动机构;所述第二微调机构包括间隔安装在所述第一承载板上的第二滑轨组件以及第三滑轨组件,所述第三滑轨组件的滑动方向垂直于所述第二滑轨组件的滑动方向,所述第二滑轨组件上安装有第一滑台,所述第三滑轨组件上安装有第二滑台,所述第一滑台上设有第一斜面,所述第二滑台上设有与所述第一斜面的斜度相同的第二斜面,所述第一斜面上安装有斜向导轨,所述第二斜面上安装有斜向滑块,所述斜向滑块与所述斜向导轨滑动配合;所述第一承载板上安装有所述第一滑台滑动的第二驱动机构;所述第二滑台上安装有双轴压力传感器。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 朝华力拓精密(深圳)有限公司 一种曲面抛光打磨装置中的双轴力控补偿机构

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