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【发明授权】偏移孔式多孔抛光垫_罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司_202110433467.5 

申请/专利权人:罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

申请日:2021-04-19

公开(公告)日:2024-04-30

公开(公告)号:CN113524026B

主分类号:B24B37/26

分类号:B24B37/26

优先权:["20200418 US 16/852422"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.30#授权;2021.11.09#实质审查的生效;2021.10.22#公开

摘要:本发明提供了一种多孔聚氨酯抛光垫,包括具有大孔的多孔基体,大孔从基表面向上延伸并向上表面开口。大孔延伸到顶部抛光表面并包括具有竖直取向的下区段和上区段。下区段和上区段在水平方向上偏移。中等尺寸的孔具有柱形状和邻近于中间区段起源的竖直取向,小孔具有柱形状和在中等尺寸的孔之间起源的竖直取向。这些孔组合以增加抛光过程中抛光垫的压缩率和顶部抛光表面的接触面积。

主权项:1.一种多孔聚氨酯抛光垫,包括:多孔基体,所述多孔基体具有大孔、中等尺寸的孔和小孔,所述大孔从基表面向上延伸并向上表面开口,所述大孔以三级孔互连,所述大孔的一部分向顶部抛光表面开口,所述大孔的至少一部分延伸到所述顶部抛光表面并包括具有竖直取向的下区段和上区段以及连接所述下区段和所述上区段的中间区段,竖直是与所述基表面和所述抛光表面正交的方向,所述下区段和上区段在水平方向上偏移,所述中等尺寸的孔具有柱形状和邻近于所述中间区段起源的竖直取向,所述小孔具有柱形状和在所述中等尺寸的孔之间起源的竖直取向,其中,具有水平偏移的上区段和下区段的所述大孔、中等尺寸的孔和小孔组合以增加抛光过程中所述抛光垫的压缩率和所述顶部抛光表面的接触面积。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 偏移孔式多孔抛光垫

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