申请/专利权人：埃特曼(厦门)光电科技有限公司

申请日：2023-10-08

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN220867574U

主分类号：C30B23/02

分类号：C30B23/02;C30B25/08

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.30#授权

摘要：本申请涉及一种源炉挡板装置及分子束外延设备，属于半导体外延技术领域。源炉挡板装置包括：支撑件，固定连接于真空腔室的底部，且与源炉对应设置；挡板，可上下运动地连接于支撑件，支撑件开设有与挡板适配的滑槽；保护罩，设置在滑槽上方，以遮挡从上方掉落的束流废弃物落入滑槽；保护罩至少遮挡滑槽朝向源炉一侧的周向的60度范围。本申请的技术方案，能够解决挡板的运动因为束流废弃物而阻滞的问题。

主权项：1.一种源炉挡板装置，应用于分子束外延设备中，所述分子束外延设备包括真空腔室、源炉和所述源炉挡板装置，其特征在于，所述源炉挡板装置包括：支撑件，固定连接于所述真空腔室的底部，且与所述源炉对应设置；挡板，可上下运动地连接于所述支撑件，所述支撑件开设有与所述挡板适配的滑槽；保护罩，设置在所述滑槽上方，以遮挡从上方掉落的束流废弃物落入所述滑槽；所述保护罩至少遮挡所述滑槽朝向所述源炉一侧的周向的60度范围。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 埃特曼(厦门)光电科技有限公司 源炉挡板装置及分子束外延设备

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