申请/专利权人：合肥东昇智能装备股份有限公司

申请日：2024-02-01

公开（公告）日：2024-05-10

公开（公告）号：CN117660910B

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35;C23C14/50

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.05.10#授权;2024.03.26#实质审查的生效;2024.03.08#公开

摘要：本申请公开了真空磁控溅射镀辊设备，属于真空磁控溅射领域，其包括支撑架以及收纳箱，所述支撑架上设置有真空设备以及真空箱，所述支撑架上滑动设置有封闭门，所述封闭门上固定连接有工作架，所述真空箱内设置有用于与所述工作架滑移配合的滑轨，所述工作架上设置有用于支撑辊体的滑动座，所述工作架上转动安装有靶材，所述靶材穿过所述封闭门，所述封闭门上设置有第一驱动组件，所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上设置有第二驱动组件，所述工作架上设置有第三驱动组件，所述支撑架与所述封闭门之间设置有辅助组件。本申请具有方便操作人员装卸靶材以及滚筒，提高靶材利用率，降低靶材打弧情况的效果。

主权项：1.真空磁控溅射镀辊设备，包括支撑架1以及收纳箱11，所述支撑架1上设置有真空设备2以及真空箱12，所述支撑架1上滑动设置有封闭门13，其特征在于：所述封闭门13上固定连接有工作架14，所述真空箱12内设置有用于与所述工作架14滑移配合的滑轨，所述工作架14上设置有用于支撑辊体的滑动座15，所述工作架14上转动安装有靶材3，所述靶材3穿过所述封闭门13，所述封闭门13上设置有第一驱动组件4，所述封闭门13远离所述真空箱12的侧壁上设置有第二驱动组件，所述工作架14上设置有第三驱动组件6，所述支撑架1与所述封闭门13之间设置有辅助组件5，所述第一驱动组件4用于驱动所述封闭门13移动，所述第一驱动组件4驱动所述封闭门13关闭时，所述第二驱动组件驱动所述靶材3转动对辊体进行磁控溅射，所述第一驱动组件4驱动所述封闭门13开启后，所述第三驱动组件6驱动所述滑动座15移动并对辊体进行释放或者重新夹持未镀膜的辊体，所述辅助组件5帮助已镀膜辊筒进入所述收纳箱11内，所述第一驱动组件4、所述第二驱动组件、所述第三驱动组件6以及所述辅助组件5相互独立；所述第一驱动组件4包括第一齿条41以及驱动轮42，所述封闭门13上穿设有第一驱动轴43，所述驱动轮42固定套设于所述第一驱动轴43上，所述第一齿条41设置于所述支撑架1上且与所述驱动轮42相互啮合，所述封闭门13上固定连接有第一电机16，所述第一电机16输出端与所述第一驱动轴43固定连接；所述辅助组件5包括第一缓冲板51以及第一导向板52，所述第一缓冲板51滑动设置于所述封闭门13靠近所述工作架14的侧壁上，所述封闭门13上开设有用于与所述第一缓冲板51滑移配合的滑槽511，所述第一缓冲板51上铰接有第一释放板53，所述第一释放板53与所述第一缓冲板51连接处设置有扭簧，所述工作架14底部铰接有第二释放板54，所述第二释放板54与所述工作架14连接处设置有扭簧，所述第一导向板52设置于工作架14底部，所述支撑架1上设置有第二导向板55，所述第二导向板55与所述收纳箱11相连通，所述第一导向板52与所述第二导向板55铰接，所述封闭门13上设置有用于控制所述第一缓冲板51移动的第一控制组件，所述支撑架1上设置有用于控制所述第一导向板52移动的第二控制组件。

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权利要求：

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