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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种确定多个数据集之间的偏移的方法，每个数据集表示在样品上形成的图案的采样区域，其中每个采样区域源自掩模图案的预定部分，该方法包括：检测数据集的噪声中的掩模图案的指纹；以及基于掩模图案的指纹确定偏移。
主权项：1.一种确定多个数据集之间的偏移的方法，每个数据集表示在样品上形成的图案的采样区域，其中每个采样区域源自掩模图案的预定部分，所述方法包括：检测所述数据集的噪声中的所述掩模图案的指纹；以及基于所述掩模图案的所述指纹确定偏移。
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百度查询： ASML荷兰有限公司 SEM图像对准
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