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申请/专利权人：三井金属矿业株式会社
申请日：2023-01-16
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118159686A
主分类号：C23C14/34
分类号：C23C14/34;C04B35/01;C04B35/453
优先权：["20220131 JP 2022-013649"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.07#公开
摘要：本发明的溅射靶为将多个溅射靶材利用接合材料接合于基材而形成的溅射靶，所述溅射靶材由包含铟In元素、锌Zn元素及添加元素X的氧化物制成，添加元素X包含选自钽Ta及铌Nb中的至少1种元素，各元素的原子比满足规定的关系式，所述溅射靶具有配置在形成于所述多个溅射靶材间的间隙中的基材保护构件。
主权项：1.一种溅射靶，其为将多个溅射靶材利用接合材料接合于基材而形成的溅射靶，所述溅射靶材由包含铟即In元素、锌即Zn元素及添加元素X的氧化物制成，添加元素X包含选自钽即Ta及铌即Nb中的至少1种元素，各元素的原子比满足式1至3的全部式子，式中的X设定为所述添加元素的含有比的总和，0.4≤In+XIn+Zn+X＜0.7510.25＜ZnIn+Zn+X≤0.620.001≤XIn+Zn+X≤0.0153所述溅射靶具有配置在形成于所述多个溅射靶材间的间隙中的基材保护构件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三井金属矿业株式会社 溅射靶
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