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【发明公布】光源系统及照明设备_深圳市绎立锐光科技开发有限公司_202410451137.2 

申请/专利权人:深圳市绎立锐光科技开发有限公司

申请日:2017-10-18

公开(公告)日:2024-06-11

公开(公告)号:CN118167945A

主分类号:F21K9/69

分类号:F21K9/69;F21K9/64;F21K9/60;F21K9/68;F21K9/20;F21Y115/10

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.11#公开

摘要:本发明提供一种光源系统及照明设备,所述光源系统包括发光模块、波长转换装置及补偿装置,其中,所述发光模块用于出射沿第一光路的第一光及沿第二光路的第二光;所述波长转换装置,用于接收所述第一光,以出射与所述第一光颜色不同的受激光;所述补偿装置,用于引导所述第二光,并调节所述第二光的发光强度分布,所述补偿装置出射的第二光与所述受激光的发光强度分布大致相同;所述受激光与所述补偿装置出射的第二光合光后产生所述光源系统出射的第三光。所述第三光中的第一光与第二光的发光强度分布大致相同,照明光斑颜色均匀。

主权项:1.一种光源系统,其特征在于,包括发光模块,用于出射沿第一光路的第一光及沿第二光路的第二光;波长转换装置,用于接收所述第一光,以出射与所述第一光颜色不同的受激光;补偿装置,用于引导所述第二光,所述补偿装置包括补偿元件和散射元件,所述散射元件用于对所述第二光散射消相干后透射,所述补偿元件用于调节所述第二光的发光强度分布,所述补偿元件的出射光束与入射光束相比,整体发光强度降低,其中,所述补偿元件的出射光束中,距离的光束中心位置越近,其发光强度减小的越多,经所述补偿元件出射的所述第二光与所述受激光的发光强度分布大致相同;所述受激光与所述补偿元件出射的所述第二光合光后产生所述光源系统出射的第三光。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 光源系统及照明设备

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