龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2022-11-06
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN118176564A
主分类号：H01L21/02
分类号：H01L21/02;C23C16/30;C23C16/505
优先权：["20211108 US 17/521,359"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.11#公开
摘要：一种等离子体处理的方法，其包括：使第一气体和第二气体流入包括衬底的等离子体处理室，该第二气体包含膜前体；在第一时间实例时，在保持该第一气体的流动的同时，切断该第二气体流入该等离子体处理室；以及在该第一时间实例之后的第二时间实例时，向该等离子体处理室的电极供电以在该等离子体处理室内产生等离子体，使该衬底的表面暴露于产生的等离子体以在该衬底上形成膜。
主权项：1.一种等离子体处理的方法，其包括：使第一气体和第二气体流入包括衬底的等离子体处理室，该第二气体包含膜前体；在第一时间实例时，在保持该第一气体的流动的同时，切断该第二气体流入该等离子体处理室；以及在该第一时间实例之后的第二时间实例时，向该等离子体处理室的电极供电以在该等离子体处理室内产生等离子体，使该衬底的表面暴露于产生的等离子体以在该衬底上形成膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体增强的成膜方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号