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申请/专利权人：北京化工大学
摘要：本发明涉及光电技术领域，公开了一种共轭聚合物薄膜及其制备方法和应用。所述薄膜包括共轭聚合物和与所述共轭聚合物共混的功能性基团修饰的绝缘聚合物。将共轭聚合物和功能性基团修饰的绝缘聚合物形成共混溶液后进行制膜得到所述共轭聚合物薄膜。本发明提供的共轭聚合物薄膜具有改进的机械性能，将其用于电子器件能够保持甚至优化电性能，同时赋予柔性器件更高的机械弯折稳定性。另外，可选择的绝缘聚合物和功能性化合物改性剂来源广泛，可以根据目标共轭聚合物的需求进行灵活调整，展现出卓越的定制化设计能力。
主权项：1.一种共轭聚合物薄膜，其特征在于，所述薄膜包括共轭聚合物和与所述共轭聚合物共混的功能性基团修饰的绝缘聚合物；其中，所述功能性基团衍生自同时含有A基团和B基团的化合物；A基团为可与绝缘聚合物反应的基团；B基团为可与共轭聚合物形成氢键相互作用力的基团。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京化工大学 共轭聚合物薄膜及其制备方法和应用
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