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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2018-10-05
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN118169959A
主分类号：G03F1/24
分类号：G03F1/24;G03F1/36;G03F1/70;G03F7/20
优先权：["20171011 US 62/571,208"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.11#公开
摘要：一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用具有照射系统和投影光学装置的光刻投影设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：1获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应；和基于所述模拟模型，对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置，和或2获得对由投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化由所述投影光学装置产生的辐射的变形缩小率，和在考虑变形制造规则或变形制造规则比率的情况下，基于所述模拟模型对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置。
主权项：1.一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用包括照射系统和投影光学装置的光刻设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：获得对由所述投影光学装置对辐射的朝向所述衬底的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应和或模型化由所述投影光学装置赋予辐射的变形缩小率；基于关于由所述模型产生的所述衬底处的模拟图案的数据来评估所述图案形成装置制造规则，以识别所述衬底处的违反所述图案形成装置制造规则的一个或更多个部位；将所述衬底处的所述一个或更多个部位转换为所述图案形成装置处的对应部位；和基于所述图案形成装置处的所述一个或更多个部位并且通过硬件计算机对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 图案化过程的优化流程
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