龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：广东工业大学
申请日：2022-09-14
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN115505882B
主分类号：C23C14/32
分类号：C23C14/32;C23C14/06;C23C14/08
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.11#授权;2023.01.10#实质审查的生效;2022.12.23#公开
摘要：本发明公开了一种氮化物结合氧化物双涂层的制备方法及涂层刀具，涂层刀具包括基体、氮化物涂层和氧化物涂层，氮化物涂层设置在基体上，氮化物涂层表面经过离子轰击处理，氧化物涂层设置在氮化物涂层上。制备方法包括如下流程：将基体装载至反应腔中；反应腔抽真空，加热，对基体进行离子清洗；利用物理气相沉积技术在基体上沉积氮化物涂层；对氮化物涂层进行离子轰击；利用物理气相沉积技术在氮化物涂层上沉积氧化物涂层。在基体上沉积氮化物涂层后，利用离子轰击的方式处理氮化物涂层的表面，增加氮化物涂层表面的粗糙度，以便增加之后所沉积的氧化物涂层的结合强度，从而提高涂层刀具的耐磨性和切削寿命。本发明可广泛应用于刀具技术领域。
主权项：1.一种氮化物结合氧化物双涂层的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括将基体装载至反应腔中；反应腔抽真空，加热，对基体进行离子清洗；通入氮气，利用物理气相沉积技术在基体上沉积氮化物涂层；反应腔抽真空，通入惰性气体，开启离子源，对氮化物涂层进行离子轰击；反应腔抽真空，通入氧气，利用物理气相沉积技术在氮化物涂层上沉积氧化物涂层；其中，沉积氮化物涂层的参数：电弧靶的靶电流密度为0.5～2.0Acm2、偏压为-50～-150V、气压为1.0～3.0Pa；离子轰击的参数：离子源的输出功率为2～5KW，偏压为-400～-800V、气压为0.6～3.0Pa；沉积氧化物涂层的参数：电弧靶的靶电流密度为0.5～1.5Acm2、偏压为-100～-200V、气压为0.6～2.0Pa。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广东工业大学 氮化物结合氧化物双涂层的制备方法及涂层刀具
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号