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申请/专利权人：科磊股份有限公司
申请日：2017-06-06
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN110741374B
主分类号：G06F30/20
分类号：G06F30/20
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.11#授权;2020.06.26#实质审查的生效;2020.01.31#公开
摘要：本发明提供光罩上及晶片上的计量目标设计，以及目标设计及处理方法。目标设计包括：粗间距周期性结构，其具有在子元件CD及或高度上变化的细间距子元件；正交周期性结构，其垂直于测量方向，具有周期性循环条当中的正交未解析间距，所述周期性循环条提供用于实现良好印刷目标的校准参数。正交周期性结构可设计在光罩上且是未解析的，或以切割图案施加在处理层上，具有对于切割层覆盖的相对低灵敏度。所设计的目标可用于覆盖计量以及用于测量工艺参数，例如扫描仪像差及间距偏差。
主权项：1.一种计量目标设计装置，其包括沿着测量方向的周期性结构，所述周期性结构具有周期性循环元件当中的粗间距，其中每一元件沿着所述测量方向是周期性的，具有在所述测量方向上的周期性循环子元件当中的细间距，其中所述粗间距是所述细间距的整数倍且在所述测量方向上，且其中所述周期性循环子元件中的一者在所述测量方向上具有第一子元件临界尺寸，并且所述周期性循环子元件中的另一者在所述测量方向上具有与所述第一子元件临界尺寸不同的第二子元件临界尺寸，且其中所述目标设计装置进一步包括正交周期性结构，其包含周期性循环条，所述周期性循环条具有与所述测量方向正交的正交未解析间距，其中所述正交未解析间距小于指定最小设计规则间距以使得所述周期性循环条经配置以不被印刷。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 科磊股份有限公司 光罩优化算法及最优目标设计
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