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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本公开内容的实施方式包括测量系统和光栅图案阵列。测量系统包括多个子系统，用于产生基板上的光栅区域的衍射图案或放大现实图像。测量系统配置为反射和透射光，且经反射和经透射的光束产生衍射图案和放大的图像。衍射图案和图像提供有关光栅区域的光栅间距和角度的信息。设置在基板上的光栅图案阵列包括主要区域和参考区域。参考区域用于定位对应的主要区域。测量系统不包括旋转台，且因此不需要精确控制台的旋转。
主权项：1.一种光学装置，包含：一个或多个光栅区域，所述光栅区域的每一个包含：一个或多个主要区域，包含多个主要光栅，每个主要光栅具有主要光栅角度和主要光栅间距；一个或多个参考区域，包含多个参考光栅，每个参考光栅具有参考光栅角度和参考光栅间距，其中每个参考光栅间距大于每个主要光栅间距，其中：每个参考光栅间距大于每个主要光栅间距；所述一个或多个主要区域的对应主要区域具有所述一个或多个参考区域的对应参考区域；并且所述对应参考区域的对应参考光栅间距为所述对应主要区域的对应主要光栅间距的约整数倍。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 测量系统及光栅图案阵列
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