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申请/专利权人：太仓市金鹿电镀有限公司
申请日：2023-11-20
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN221107795U
主分类号：B01F27/192
分类号：B01F27/192;B01F27/90;B01F35/42
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.11#授权
摘要：本实用新型提供一种纳米石墨镀铜均匀化装置，涉及均匀混合装置领域，以解决市面上常见的纳米石墨均匀化装置，旋转搅拌结构的底部会无法达到均匀化装置底部，产生一端距离，会影响装置底部的沉淀物的混合效果的问题，包括顶部密封结构，所述顶部密封结构安装在均匀化装置本体的顶端密封，下方的辅助结构外部套装有套装滑动结构，并处于辅助结构的底端外部自由滑动，每个套装滑动结构的外部固定有两个呈V形排列的推动结构，外端为圆形结构的推动结构跟随套装滑动结构一起移动。旋转的时候，借助甩动力量，控制套装滑动结构以及推动结构处于均匀化装置本体的底部以及辅助结构的外部滑动，将均匀化装置本体底部的沉淀物推动混合，提高均匀化效率。
主权项：1.一种纳米石墨镀铜均匀化装置，其特征在于，包括：均匀化装置本体（1）；所述均匀化装置本体（1）的外部焊接固定有四个环状排列的控制组件（103），每个控制组件（103）的内部插入有一个移动组件（104），并在控制组件（103）的内部自由抽拉，每个弹性金属材质的移动组件（104）顶端焊接有两个楔形结构的夹持定位组件（105）；顶部密封结构（2），所述顶部密封结构（2）安装在均匀化装置本体（1）的顶端密封，顶部密封结构（2）的顶端安装有驱动电机，顶部密封结构（2）的内部通过驱动旋转轴（201）固定有上下两个辅助结构（203），下方的辅助结构（203）外部套装有套装滑动结构（207），并处于辅助结构（203）的底端外部自由滑动，每个套装滑动结构（207）的外部固定有两个呈V形排列的推动结构（208），外端为圆形结构的推动结构（208）跟随套装滑动结构（207）一起移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 太仓市金鹿电镀有限公司 一种纳米石墨镀铜均匀化装置
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