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申请/专利权人：宁波安集微电子科技有限公司
申请日：2022-12-13
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118185630A
主分类号：C09K13/00
分类号：C09K13/00;H01L21/3213;C23F1/28
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明提供了一种蚀刻组合物及其用途。所述蚀刻组合物包括羟基胺，表面活性剂，金属腐蚀抑制剂，胺类pH调节剂，有机酸和水。本发明中的蚀刻组合物可用于7nm以上的钴层工艺的清洗，对等离子体灰化后的聚合物残留、金属氧化物、氟化物有着较好的清洗能力，同时对TiN和Low‑K材料具有很好的相容性，工艺操作窗口大。
主权项：1.一种蚀刻组合物，其特征在于，包括羟基胺，表面活性剂，金属腐蚀抑制剂，胺类pH调节剂，有机酸和水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 宁波安集微电子科技有限公司 一种蚀刻组合物及其用途
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