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申请/专利权人：PSK有限公司
申请日：2021-12-02
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118202436A
主分类号：H01J37/32
分类号：H01J37/32;H01L21/67
优先权：["20211102 KR 10-2021-0149134"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明提供处理基板的设备。处理基板的设备可以包括：壳体，其具有内部空间；下部电极单元，其在内部空间中支撑基板；上部电极单元，其与下部电极单元面对面；以及气体供应单元，其向内部空间供应工艺气体；其中，上部电极单元包括：介电板，其与被下部电极单元支撑的基板的顶面相向；支撑主体，其支撑介电板，其中，支撑主体与介电板相互组合而形成缓冲空间，气体供应单元经缓冲空间向内部空间供应工艺气体；以及挡环，其配置于从缓冲空间向内部空间流动的工艺气体的流动路径上。
主权项：1.一种基板处理设备，所述基板处理设备用于处理基板，包括：壳体，所述壳体具有内部空间；下部电极单元，所述下部电极单元在所述内部空间中支撑基板；上部电极单元，所述上部电极单元与所述下部电极单元面对面；以及气体供应单元，所述气体供应单元向所述内部空间供应工艺气体；所述上部电极单元包括：介电板，所述介电板与被所述下部电极单元支撑的所述基板的顶面相向；支撑主体，所述支撑主体支撑所述介电板，其中，所述支撑主体与所述介电板相互组合而形成缓冲空间，所述气体供应单元经所述缓冲空间向所述内部空间供应所述工艺气体；以及挡环，所述挡环配置于从所述缓冲空间向所述内部空间流动的所述工艺气体的流动路径上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： PSK有限公司 上部电极单元及包含其的基板处理设备
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