申请/专利权人:深圳先进技术研究院
申请日:2024-03-08
公开(公告)日:2024-06-14
公开(公告)号:CN118186352A
主分类号:C23C14/35
分类号:C23C14/35;H01L31/18;H01L31/0392;H01L31/032;H01L31/0216;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/02;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/18
优先权:
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.06.14#公开
摘要:本申请提供的缓冲层、铜铟镓硒薄膜太阳能电池及制备方法,在CIGS吸收层上以射频磁控溅射法沉积Zn1‑xAlxO,S缓冲层;其中:在所述射频磁控溅射法中工作气体为氩气和H2S,所述氩气与H2S流量的调控比例在15:1‑30:1区间,通过控制氩气和H2S的流量来调整SS+O,使得Zn1‑xAlxO,S缓冲层与吸收层可以有更好的匹配,缓冲层的可见光区透射率可达90%以上,制备得到的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的光学带隙宽度在2.6~3.8eV之间。
主权项:1.一种缓冲层的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:在CIGS吸收层上以射频磁控溅射法沉积Zn1-xAlxO,S缓冲层;其中:在所述射频磁控溅射法中工作气体为氩气和H2S,所述氩气与H2S流量的调控比例在15:1-30:1区间。
全文数据:
权利要求:
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