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申请/专利权人：深圳清溢微电子有限公司
申请日：2023-11-08
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN117608169B
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G02B21/02;G02B21/00
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.14#授权;2024.03.15#实质审查的生效;2024.02.27#公开
摘要：本发明公开了一种光学物镜下掩膜版清晰成像方法、系统，该方法包括：采用100x及以上高倍光学物镜采集光刻掩膜版的图像，并对所述光刻掩膜版的图像进行锐化处理；将锐化处理后的所述光刻掩膜版的图像与优化数据库中对应的电镜图样进行拟合，获取所述光刻掩膜版的图像与所述电镜图样之间的相对差值；根据所述相对差值对锐化处理的所述光刻掩膜版的图像进行优化处理，输出所述光刻掩膜版的清晰图像。该方法实现清晰的成像效果,可以直观地进行边缘波浪的观察,清晰度高；不用电镜的情况下,大致了解最终生成图像各方面特性；且成本低,对于早期IC开发,可部分替代电镜作观察。
主权项：1.一种光学物镜下掩膜版清晰成像方法，其特征在于，所述方法包括：采用100x及以上高倍光学物镜采集光刻掩膜版的图像，并对所述光刻掩膜版的图像进行锐化处理；将锐化处理后的所述光刻掩膜版的图像与优化数据库中对应的电镜图样进行拟合，获取所述光刻掩膜版的图像与所述电镜图样之间的相对差值；根据所述相对差值对锐化处理的所述光刻掩膜版的图像进行优化处理，输出所述光刻掩膜版的清晰图像。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳清溢微电子有限公司 光学物镜下掩膜版清晰成像方法、系统
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