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申请/专利权人：船井电机株式会社
摘要：本发明提供一种流体喷射头、改良其的方法及制作喷流喷射头的方法。流体喷射头包含含有沉积在其上的流体喷射器的至少一个阵列的硅衬底。至少一个流体供应通孔蚀刻穿过邻近于流体喷射器的至少一个阵列的硅衬底。流动特征层附接到硅衬底。流动特征层含有流体室的至少一个阵列及对应于用于喷射流体的流体喷射器的至少一个阵列的流体流动通道，以将流体从至少一个流体供应通孔提供到流体室。流动特征层的至少一部分包括具有改良的表面粘合特性的附接表面，且含有喷嘴孔的喷嘴板层压到流动特征层以得到流体喷射头。
主权项：1.一种用于喷流喷射装置的流体喷射头，包括：硅衬底，含有沉积在其上的流体喷射器的至少一个阵列；蚀刻穿过邻近于所述流体喷射器的至少一个阵列的所述硅衬底的至少一个流体供应通孔；流动特征层，附接到所述硅衬底，所述流动特征层含有流体室的至少一个阵列及对应于用于喷射流体的所述流体喷射器的至少一个阵列的流体流动通道，以将流体从所述至少一个流体供应通孔提供到流体室，其中所述流动特征层的至少一部分包括具有改良的表面粘合特性的具有表面区域的附接表面；以及喷嘴板，含有喷嘴孔，层压到所述流动特征层以得到所述流体喷射头。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 船井电机株式会社 流体喷射头、改良其的方法及制作喷流喷射头的方法
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