申请/专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;中山市北京理工大学研究院

申请日：2021-11-04

公开（公告）日：2024-06-18

公开（公告）号：CN113862630B

主分类号：C23C14/54

分类号：C23C14/54;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/26;C23C14/32;C23C14/22

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.06.18#授权;2022.01.21#实质审查的生效;2021.12.31#公开

摘要：本公开提供了一种窄带滤光片的制备方法和镀膜机。窄带滤光片的制备方法包括：包括：模拟该窄带滤光片的第一光学曲线；镀制所述窄带滤光片后，检测所述窄带滤光片的第二光学曲线；检测所述第一光学曲线和所述第二光学曲线是否一致，如果不一致，则调整所述第一光学曲线至所述第一光学曲线的特征点与所述第二光学曲线一致时，确定工艺影响因子；根据该工艺影响因子调整所述镀制参数以重新镀制所述窄带滤光片。上述的窄带滤光片的制备方法和镀膜机调整第一光学曲线直至第一光学曲线和第二光学曲线一致来确定镀膜机的工艺影响因子，从而可以根据该工艺影响因子修正窄带滤光片的镀制参数的作用。

主权项：1.一种窄带滤光片的制备方法，其特征在于，包括：获取第一光学曲线步骤：配置窄带滤光片的光学参数，根据所述光学参数模拟该窄带滤光片的第一光学曲线；获取第二光学曲线步骤：配置所述窄带滤光片的镀制参数并镀制所述窄带滤光片，检测镀制的所述窄带滤光片的第二光学曲线，以及标记所述第二光学曲线的特征点；确定工艺影响因子步骤：检测所述第一光学曲线和所述第二光学曲线是否一致，如果不一致，则调整所述第一光学曲线，直至所述第一光学曲线的特征点与所述第二光学曲线一致时，确定工艺影响因子；其中，所述第一光学曲线与所述第二光学曲线一致包括所述第一光学曲线的特征点和所述第二光学曲线的特征点一致，在所述第一光学曲线和第二光学曲线的特征点一致时，从镀膜机的膜层设计软件中获取所述工艺影响因子；在镀膜机中输入设计厚度后，使用镀膜机镀制一层膜层并测量该膜层的实际厚度；根据所述实际厚度和设计厚度计算该镀膜机对应的工具影响因子，根据下式计算所述工具影响因子TF1：TF1＝Ha1Hd；其中，Ha1为该膜层的实际镀制厚度，Hd为该膜层的设计厚度；参数调整步骤：根据该工艺影响因子和所述工具影响因子调整所述镀制参数以重新镀制所述窄带滤光片；所述镀制参数包括膜层的输入厚度，根据下式确定所述输入厚度Hi：Hi＝Ha2TF1*TF2；其中，Ha2为上一次实际镀制的窄带滤光片的膜层厚度，TF2为工艺影响因子；向镀膜机输入所述输入厚度Hi，重新镀制所述窄带滤光片；重复获取第二光学曲线步骤、确定工艺影响因子步骤和参数调整步骤，直至在所述确定工艺影响因子步骤中检测镀制的所述窄带滤光片的第二光学曲线与所述第一光学曲线的特征点一致。

全文数据：

权利要求：

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