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申请/专利权人：上海联影医疗科技股份有限公司
申请日：2021-11-18
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN114113173B
主分类号：G01N23/20
分类号：G01N23/20;G01N23/20008
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.18#授权;2022.03.18#实质审查的生效;2022.03.01#公开
摘要：本发明提供一种X射线设备、应用于X射线设备中的散射校正方法，散射校正方法包括探测位于主射线照射区的X射线的第一射线强度，并探测位于非主射线照射区的X射线的第二射线强度，其中，所述非主射线照射区位于所述主射线照射区的外侧；建立所述第一射线强度和第二射线强度之间的计算关系，并根据所述计算关系计算完成所述主射线照射区的散射射线的校正，可以有效减弱散射射线对主射线的影响，从而降低了其对防散射格栅的依赖，还没有大范围的增设探测器以增大探测器的分布范围，没有明显增加探测器的成本，减少了散射校正方法对硬件校正的依赖，从而降低了散射校正的难度。
主权项：1.一种应用于X射线设备中的散射校正方法，其特征在于，包括以下步骤：探测位于主射线照射区的X射线的第一射线强度，并探测位于非主射线照射区的X射线的第二射线强度，其中，所述非主射线照射区沿Z向位于所述主射线照射区的一侧或两侧，所述第一射线强度包括散射射线强度和主射线照射强度，Z向为扫描床进入扫描洞的方向；其中，通过蒙特卡罗模拟建立确定主射线照射区和非主射线照射区，且所述非主射线照射区和主射线照射区能够通过准直器校正获得；通过蒙特卡罗模拟获取，所述主射线照射区的散射射线强度与所述非主射线照射区的散射射线强度之间的关系；计算所述第一射线强度和第二射线强度之间的差值，并完成所述主射线照射区的散射射线的校正。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海联影医疗科技股份有限公司 一种X射线设备、应用于X射线设备中的散射校正方法
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