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申请/专利权人：JX金属株式会社
申请日：2018-08-16
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN113817993B
主分类号：C23C14/34
分类号：C23C14/34;C23C14/16;B22F3/14;B22F3/105;C22C1/05;C22C32/00;G11B5/73;G11B5/84;G11B5/851;H01F41/18
优先权：["20170921 JP 2017-180830"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.18#授权;2022.01.07#实质审查的生效;2021.12.21#公开
摘要：本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体，其中该溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为12以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。
主权项：1.一种溅镀靶，其含有Co与包含Cr及Ru中的至少Ru的金属作为金属成分，该包含Cr及Ru中的至少Ru的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为12以上，且含有Nb2O5作为氧化物成分，Nb2O5的含量为2mol%～5mol%，进一步含有Nb2O5以外的氧化物，包含Nb2O5的氧化物的合计含量为30vol%以上，该Nb2O5以外的氧化物是选自由TiO2、SiO2、B2O3、CoO、Co3O4、Cr2O3、Ta2O5、ZnO及MnO组成的群中的至少一种氧化物，以15mol%以上且未达60mol%含有Co。
全文数据：
权利要求：
百度查询： JX金属株式会社 溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体
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皖公网安备 34010402703815号