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申请/专利权人：杭州华橙软件技术有限公司
摘要：本申请公开了一种基站，包括：基站本体，设置有清洗仓，清洗仓可容纳液体；摄像组件，设置于清洗仓内壁，用于拍摄清洗仓内的清洁状态；搅动组件，设置于清洗仓内，搅动组件至少部分可位于液体中，搅动组件可相对清洗仓运动，用于搅动液体冲刷清洗仓内壁；控制组件，设置于基站本体，控制组件分别与摄像组件以及搅动组件电连接。本申请基站的清洗仓不易残留污渍。
主权项：1.一种基站，其特征在于，包括：基站本体，设置有清洗仓，所述清洗仓可容纳液体；摄像组件，设置于所述清洗仓内壁，用于拍摄所述清洗仓内的清洁状态；搅动组件，设置于所述清洗仓内，所述搅动组件至少部分可位于所述液体中，所述搅动组件可相对所述清洗仓运动，用于搅动所述液体冲刷所述清洗仓内壁；控制组件，设置于所述基站本体，所述控制组件分别与所述摄像组件以及所述搅动组件电连接。
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