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申请/专利权人：铠侠股份有限公司
摘要：本发明的实施方式的曝光装置对基板进行曝光。曝光装置包括控制装置，所述控制装置构成为基于配置在基板的三个以上的对准标记的测量结果对曝光量进行校正。控制装置执行基于测量结果执行对相互交叉且与基板的面内平行的第一方向以及第二方向各自的倍率分量进行校正的对准。控制装置基于第一方向的倍率分量与第二方向的倍率分量之差的值对曝光量进行校正。
主权项：1.一种曝光装置，对基板进行曝光，其特征在于，所述曝光装置具备控制装置，所述控制装置构成为基于配置在所述基板的三个以上的对准标记的测量结果对曝光量进行校正，所述控制装置基于所述测量结果执行对相互交叉且与所述基板的面内平行的第一方向以及第二方向各自的倍率分量进行校正的对准，基于所述第一方向的倍率分量与所述第二方向的倍率分量之差的值对所述曝光量进行校正。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 铠侠股份有限公司 曝光装置、曝光方法以及半导体装置的制造方法
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