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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供在进行具有微小图案的基片的干燥的情况下，有利于抑制微小图案的毁坏的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：干燥装置，其进行使用超临界处理流体使基片干燥的干燥处理，其中，基片具有形成有微小图案的处理面；和表面改性装置，其进行使基片的处理面疏水化的表面改性处理，表面改性装置在干燥处理后进行表面改性处理。
主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：干燥装置，其进行使用超临界处理流体使基片干燥的干燥处理，其中，所述基片具有形成有微小图案的处理面；和表面改性装置，其进行使所述基片的所述处理面疏水化的表面改性处理，所述表面改性装置在所述干燥处理后进行所述表面改性处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和基片处理方法
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