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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日：2022-12-19
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118226701A
主分类号：G03F1/36
分类号：G03F1/36;G03F7/20
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：一种掩膜设计方法及其装置、量测方法、存储介质和电子设备，所述掩膜设计方法包括：建立特征图形库，所述特征图形库包括：特征图形集；所述特征图形集的拆分方案；获得待处理掩膜设计；基于所述特征图形库，拆分所述待处理掩膜设计以获得多个子掩膜设计。通过特征图形库的引入，提供固定的所述特征图形集的拆分方案，使与所述特征图形集相匹配的关键图形集具有固定的拆分方案，从而实现不同产品中，相同关键图形集具有相同的拆分方案，以降低监控量测的难度，减少评估干扰。
主权项：1.一种掩膜设计方法，其特征在于，包括：建立特征图形库，所述特征图形库包括：特征图形集；所述特征图形集的拆分方案；获得待处理掩膜设计；基于所述特征图形库，拆分所述待处理掩膜设计以获得多个子掩膜设计。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 掩膜设计方法及其装置、量测方法、存储介质和电子设备
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