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申请/专利权人：南京大学
摘要：该发明属于表面微结构加工领域，具体涉及一种用于规模化批量制备表面周期有序阵列结构的热压印模板。采用紫外光刻工艺与湿法刻蚀相结合的策略制备了具有表面周期有序阵列结构的硅材质热压模板。所制备的模板可结合热压工艺在聚合物材料表面规模化批量制备表面微结构阵列，进而赋予聚合物材料新的表面功能特性。高精度的紫外光刻工艺使得制备的热压模板尺寸精度高，结构均一性好。此外，由于硅材质模板的导热能力强、耐热性好，可将其与大多数聚合物材料结合进行热压操作，能够解决大规模、高效率、低成本制备聚合物材料的表面光子结构的问题。
主权项：1.一种用于规模化批量制备表面周期有序阵列结构的热压印模板，其特征在于，包括以下步骤：1将厚度为200μm的4英寸硅片用异丙醇清洗洁净，干燥后用氮气吹扫其表面。采用化学气相沉积法镀一层氮化硅薄膜，然后进行HMDS处理，随后在硅片表面旋涂光刻胶并进行紫外光刻和显影操作。2显影操作结束后采用反应离子刻蚀法对显影后的硅片进行刻蚀处理。刻蚀完后对硅片进行去胶处理。随后将去胶后的硅片用KOH溶液进行湿法刻蚀处理。最后将刻蚀处理后的硅片进行去氮化硅操作，得到产物具有微结构图案的热压印模板。3所制得的热压印模板能够通过热压的方式在聚合物薄膜材料表面规模化批量制备表面周期有序阵列结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南京大学 一种用于规模化批量制备表面周期有序阵列结构的热压印模板
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