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申请/专利权人：株式会社日立高新技术
摘要：能够进一步提高等离子处理装置的处理室内的等离子的均匀性。因此，在等离子处理装置中具备：样品室0112，在内部具备载置被处理基板0113的样品台；磁场产生单元0116，在样品室的内部产生磁场；微波电力源0101，使微波电力产生；微波电力输送部0103、0106，输送微波电力；以及微波立体电路部，将所输送的微波电力经由电介质窗供给到处理室的内部，使微波立体电路部具备如下部件而构成：分支电路0202，将由微波电力输送部输送的微波电力向多个方位角方向分支；环形谐振器0201，使在分支电路向多个方位角方向分支的微波电力谐振；以及同轴线路部0110，将由环形谐振器谐振后的微波电力经由电介质窗供给到处理室的内部。
主权项：1.一种等离子处理装置，具备：处理室，在内部具备载置被处理基板的样品台；磁场产生单元，在所述处理室的内部产生磁场；微波电力源，使微波电力产生；微波电力输送部，输送由所述微波电力源产生的所述微波电力；以及微波立体电路部，将由所述微波电力输送部输送的所述微波电力经由电介质窗供给到所述处理室的内部，其特征在于，所述微波立体电路部具备：分支电路部，将由所述微波电力输送部输送的所述微波电力向多个方位角方向分支；环形谐振器，配置于所述分支电路部的周围，使在所述分支电路部向多个方位角方向分支的所述微波电力谐振；以及同轴线路部，与所述环形谐振器连接，将由所述环形谐振器谐振后的所述微波电力经由所述电介质窗供给到所述处理室的内部。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社日立高新技术 等离子处理装置
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