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申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所
摘要：本发明公开了一种曲面光刻直写设备，用于光刻设备，尤其适用于大口径凹面基底加工。本发明由曝光光源，聚焦镜头系统，检焦系统，运动控制台和整机框架组成。光束调控和检焦系统相互配合保证线条线宽的一致性。运动控制台实现对光刻轨迹的精准布局。该设备同时具有曲面基底光刻和平面光刻的能力，可在曲率半径大于100mm的凹面基底上实现10um以下的一致性线宽并保证高对称性，平面基底实现亚微米级的一致性线宽。
主权项：1.一种曲面光刻直写设备，所述设备包括曝光光源、聚焦镜头系统、检焦系统、运动控制台和整机框架，其特征在于：曝光光源位于整机框架的底座平台上；聚焦镜头系统固定在整机框架的L型框架顶端，检焦系统固定在聚焦镜头系统上，运动控制台平放于整机框架的底座上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院光电技术研究所 一种曲面光刻直写设备
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