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申请/专利权人：佳能特机株式会社
摘要：本发明涉及成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。即便在具有不均匀的压力分布的腔室内一边使溅射区域移动一边进行溅射的情况下，也可以抑制溅射的品质降低。成膜装置1具有：在内部配置成膜对象物6和靶2的腔室10、以及使从靶2产生溅射粒子的溅射区域A1在腔室10内移动的移动机构移动台驱动装置12。成膜装置1利用移动机构使溅射区域A1移动并且使溅射粒子堆积于成膜对象物6而成膜。成膜装置1具有调节腔室10内的压力的压力调节机构排气机构15、气体导入机构16，压力调节机构根据腔室10内的溅射区域A1的位置来调节腔室内的压力。
主权项：1.一种成膜装置，该成膜装置具有：腔室，所述腔室在内部配置成膜对象物以及靶，并且在壁上设有导入口以及排气口；以及移动机构，所述移动机构使从所述靶产生溅射粒子的溅射区域在所述腔室内移动，所述成膜装置利用所述移动机构使所述溅射区域移动并且使所述溅射粒子堆积于所述成膜对象物而成膜，其特征在于，所述成膜装置具有：对所述腔室内的压力进行调节的压力调节机构；以及压力取得机构，所述压力取得机构取得所述腔室内的压力的压力值，所述压力调节机构根据所述腔室内的所述溅射区域的位置和由所述压力取得机构取得的压力值对所述腔室内的压力进行调节，以便所述溅射区域附近的压力始终成为目标压力值，所述成膜装置还具备存储部，所述存储部存储表格或数学式，所述表格或数学式通过使所述腔室内的所述溅射区域的位置、由所述压力取得机构取得的压力值、以及所述溅射区域附近的局部压力值相对应而得到，所述压力调节机构基于所述腔室内的所述溅射区域的位置和存储在所述存储部中的所述表格或所述数学式，对所述腔室内的压力进行调节，所述表格或所述数学式是基于预先取得的所述腔室内的压力分布的表格或数学式。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 佳能特机株式会社 成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法
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