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申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日：2022-12-23
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118242975A
主分类号：G01B11/00
分类号：G01B11/00;G01B11/06
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明提供一种量测装置及量测方法，所述量测装置包括工件台、光学成像系统、光学测距系统及信号处理系统，光学成像系统对待测基板上的第一区域进行对焦，第一区域是待测基板的待测区域中的一部分；光学测距系统探测光学成像系统在第一区域完成对焦后的高度值，作为第一高度值；量测装置以光学测距系统测得第一高度值为基准，对待测基板进行测量。本发明中，以第一高度值为基准，采用光学测距系统对待测基板进行对焦，不仅具有较高的对焦速率，还可保证较佳的对焦精度，从而提高量测速率及量测精度。
主权项：1.一种量测装置，其具有：工件台，用于承载待测基板；光学成像系统，用于对待测基板的一部分进行摄像；光学测距系统，用于对待测基板的一部分的高度进行测量；所述光学成像系统和光学测距系统保持同步运动；信号处理系统，对所述光学成像系统摄像所得的图像信号进行处理，对待测基板中图形的尺寸进行测量；其特征在于：所述光学成像系统对待测基板上的第一区域进行对焦，所述第一区域是所述待测基板的待测区域中的一部分；所述光学测距系统探测所述光学成像系统在所述第一区域完成对焦后的高度值，作为第一高度值；所述光学成像系统以所述光学测距系统测得所述第一高度值为基准，对待测基板进行摄像。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 量测装置及量测方法
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