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申请/专利权人：浙江众凌科技有限公司
申请日：2024-05-08
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118244572A
主分类号：G03F1/68
分类号：G03F1/68;G03F1/76;G03F1/80;G03F1/82;G03F1/84
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明公开了掩膜版用invar原材的表面控制方法，具体涉及掩膜版技术领域，包括如下步骤：步骤S1：对invar原材进行称重，在invar原材表面涂上光刻胶后进行曝光显影后形成光刻图案；步骤S2：轧制Invar原材表面粗糙度；步骤S3：控制invar原材成品轧程变形量；步骤S4：将含有光刻图案的invar原材加入到蚀刻液进行蚀刻处理，对invar原材进行减薄处理；步骤S5：调节相应的蚀刻速率。本发明通过控制轧制Invar原材表面粗糙度＜0.1um并配合进一步化学刻蚀工艺，可以有效减少原材表面缺陷，同时通过控制轧程总变形量和初轧道次变形量，可以有效改善表面光泽度。
主权项：1.掩膜版用invar原材的表面控制方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1：对invar原材进行称重，在invar原材表面涂上光刻胶后进行曝光显影后形成光刻图案；步骤S2：轧制Invar原材表面粗糙度；步骤S3：控制invar原材成品轧程变形量；步骤S4：将含有光刻图案的invar原材加入到蚀刻液进行蚀刻处理，对invar原材进行减薄处理；步骤S5：调节相应的蚀刻速率。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江众凌科技有限公司 掩膜版用invar原材的表面控制方法
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