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申请/专利权人：安徽工业大学芜湖技术创新研究院;安徽工业大学
摘要：本发明公开了一种可控制亲疏水层厚度的Janus膜制备方法，属于膜材料制备技术领域，该方法首先在多孔基底膜一侧旋涂光刻胶以形成光刻胶旋涂层；然后利用海绵头蘸取PVDFPDMS复合乳液后挤压在多孔基底膜未旋涂光刻胶的一侧并形成疏水层；再将光刻胶旋涂层中的光刻胶去除，并经过氧等离子体辐照后形成亲水层。该方法通过控制旋涂速度可以调节光刻胶旋涂层厚度，从而可控制亲水层厚度。通过海绵头蘸取复合乳液后与多孔基底膜接触并挤压，简单、高效、均匀的浸润乳液，且通过控制海绵头挤压力可以控制乳液浸润深度，从而可控制疏水层厚度。因此，本发明操作简便、工艺可控、成本低廉，且可规模化制备，具有非常积极的应用和推广价值。
主权项：1.一种可控制亲疏水层厚度的Janus膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：取一块多孔基底膜先后经过无水乙醇、去离子水进行超声清洗10分钟，并烘干备用；步骤二：将步骤一得到的多孔基底膜固定在样品台上，并在多孔基底膜一侧表面旋涂一层光刻胶，从而在多孔基底膜表面形成一层光刻胶旋涂层；步骤三：将聚偏氟乙烯微球乳液和聚二甲基硅氧烷混合后磁力搅拌2小时配制PVDFPDMS复合乳液；步骤四：利用海绵头蘸取步骤三配制的PVDFPDMS复合乳液，并将海绵头挤压在步骤二中多孔基底膜未旋涂光刻胶的一侧，形成疏水层；步骤五：将步骤四制备的多孔基底膜置于无水乙醇中浸泡5分钟，并轻微搅拌，以去除光刻胶旋涂层中的光刻胶；步骤六：将步骤五制备的多孔基底膜加热烘干，形成一层光刻胶释放层；步骤七：利用大气压低温氧等离子体处理步骤六制备的光刻胶释放层，得到亲水层，从而制备出具有一侧亲水层和一侧疏水层的Janus膜。
全文数据：
权利要求：
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