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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本公开内容总体上涉及用于改进处理气体的压力分布的方位角均匀性的设备。在一个示例中，处理腔室包括盖、侧壁、和基板支撑件以界定处理体积。底部碗、腔室基底、和壁界定净化体积。所述净化体积设置于所述处理体积下方。所述底部碗包括第一表面，所述第一表面具有第一等化器孔。通路经由所述第一等化器孔及入口将所述处理体积耦合至所述净化体积。所述通路位于所述第一等化器孔上方。所述腔室基底具有净化端口，所述净化端口可耦合至净化气体线以用于供应净化气体至所述净化体积。挡板在所述净化端口上方的一高度处设置于所述净化体积中，且经配置以偏转净化气体的轨迹。
主权项：1.一种处理腔室，包括：盖、侧壁、和基板支撑件，所述盖、所述侧壁、和所述基板支撑件共同界定处理体积；底部碗，包括设置为穿过所述底部碗的第一等化器孔；腔室基底，所述腔室基底和所述底部碗共同界定净化体积，所述净化体积设置在所述处理体积下方，所述腔室基底包括净化端口，所述净化端口能耦合至净化气体线以用于经由所述净化端口将净化气体供应至所述净化体积；第一波纹管，经配置以保持内部体积的真空完整性，所述波纹管外接于支撑轴并且耦合至所述基板支撑件，其中所述内部体积包括所述处理体积和所述净化体积；通路，位于所述第一等化器孔上方，经由入口耦合至所述处理体积，并且经由所述第一等化器孔耦合至所述净化体积；以及第二波纹管，设置在所述净化体积中，其中所述净化体积由所述第二波纹管、所述腔室基底、所述底部碗和所述侧壁界定；挡板，所述挡板在所述净化端口上方的一高度处设置于所述净化体积中，其中所述挡板经配置以偏转进入所述净化体积的所述净化气体的轨迹。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于改进底部净化气流均匀性的挡板实现
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