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申请/专利权人：杭州美迪凯光电科技股份有限公司
摘要：本发明提供一种减少无效镀膜区域的介质膜的制备方法，依次包括一次涂胶、一次光刻、一次显影、镀膜、一次脱胶剥离、二次涂胶、二次光刻、二次显影、离子束刻蚀和二次脱胶剥离，其中所述一次涂胶使用为光刻胶处理晶圆，光刻胶的厚度需确保可承受后续蚀刻过程，所述一次显影后得到设计图案，所述镀膜采用沉积镀膜，所述二次涂胶使用保护层光阻覆盖所述设计图案实现保护，所述离子束刻蚀进行整面刻蚀，保留部分或全部所述一次涂胶留下的光刻胶层；所述二次脱胶剥离采用liftoff工艺，本发明使用无机物沉积方式组成的彩色滤波阵列，对应的光谱性能优于有机材料的彩色光刻胶组成的彩色滤波阵列，性能设计多样，可操作性强，污染少。
主权项：1.一种减少无效镀膜区域的介质膜的制备方法，其特征在于：依次包括如下步骤：一次涂胶、一次光刻、一次显影、镀膜、一次脱胶剥离、二次涂胶、二次光刻、二次显影、离子束刻蚀和二次脱胶剥离，其中所述一次涂胶使用为光刻胶处理晶圆，光刻胶的厚度需确保可承受后续蚀刻过程，所述一次显影后得到设计图案，所述镀膜采用沉积镀膜，所述二次涂胶使用保护层光阻覆盖所述设计图案实现保护，所述离子束刻蚀进行整面刻蚀，保留部分或全部所述一次涂胶留下的光刻胶层；所述二次脱胶剥离采用liftoff工艺。
全文数据：
权利要求：
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