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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了用于生成样品图和处理样品的方法。在一种布置中，方法包括测量样品上多个场区域中每个场区域中的第一标记的位置。将第一模型拟合到第一标记的测量位置。拟合的第一模型表示场区域的位置。该方法包括测量一个场区域或多个场区域中的每个场区域中的多个第二标记的位置。将第二模型拟合到第二标记的测量位置。拟合的第二模型表示每个场区域的形状。使用拟合的第一和第二模型输出样品图。
主权项：1.一种生成样品图的方法，所述方法包括：获得具有场区域的样品；测量第一标记在多个所述场区域中的每个场区域中的位置；将第一模型拟合到所测量的所述第一标记的所述位置，经拟合的所述第一模型表示所述场区域的位置；测量多个第二标记在一个场区域中或在多个场区域的每个场区域中的位置；将第二模型拟合到所测量的所述第二标记的所述位置，经拟合的所述第二模型表示每个场区域的形状；以及使用经拟合的所述第一模型和所述第二模型输出样品图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 生成样品图的方法、计算机程序产品
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