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申请/专利权人：沐曦集成电路(上海)有限公司
摘要：本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及一种纹理采样方法、电子设备及存储介质，其通过硬件执行时实现以下步骤：获取软件采样指令发送的待采样的二维纹理坐标和采样地址；提取采样地址中的原始纹理面编号；将原始纹理面编号作为二维纹理坐标的第三个坐标分量得到立方体纹理的目标采样坐标；根据目标采样坐标进行对立方体纹理进行采样，得到N个采样点；其中，当采样点的二维纹理坐标超出纹理边界时，根据预设映射关系分别将采样点的二维纹理坐标转换为相邻纹理面上的坐标以及将采样点的原始纹理面编号转换为相邻纹理面的编号，能够使采样点自然平滑的过渡到相邻纹理面得到实际采样点，得到无缝采样结果。
主权项：1.一种纹理采样方法，其特征在于，所述纹理采样方法包括软件执行的软件采样指令和硬件执行的通用采样指令，当硬件执行通用采样指令时实现以下步骤：P100，获取软件采样指令发送的待采样的二维纹理坐标和采样地址afaceid，其中afaceid包括二维纹理坐标在立方体纹理中所属的原始纹理面编号；P200，提取afaceid中的原始纹理面编号；P300，将原始纹理面编号作为二维纹理坐标的第三个坐标分量得到立方体纹理的目标采样坐标；P400，根据目标采样坐标进行对立方体纹理进行采样，得到N个采样点；其中，当采样点的二维纹理坐标超出纹理边界时，根据预设映射关系分别将采样点的二维纹理坐标转换为相邻纹理面上的坐标以及将采样点的原始纹理面编号转换为相邻纹理面的编号。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 沐曦集成电路(上海)有限公司 一种纹理采样方法、电子设备及存储介质
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