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申请/专利权人：土旦西绕
摘要：本实用新型公开了一种双层防偏移笔尖，包括笔尖一和笔尖二，所述笔尖一叠设在笔尖二上，所述笔尖一与所述笔尖二之间设有防止笔尖一与笔尖二发生相对偏移的限位结构。本实用新型在两个笔尖之间增设了限位结构，即使长时间书写或者受到较大外部压力时也能防止两个笔尖的位置发生相对偏移，解决了笔尖位置容易发生相对偏移并影响书写的技术问题。
主权项：1.一种双层防偏移笔尖，其特征在于：包括笔尖一（1）和笔尖二（2），所述笔尖一（1）叠设在笔尖二（2）上，所述笔尖一（1）与所述笔尖二（2）之间设有防止笔尖一（1）与笔尖二（2）发生相对偏移的限位结构（3）。
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