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一种封装体露金属双面切割方法 

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申请/专利权人:合肥矽迈微电子科技有限公司

摘要:本发明公开了一种封装体露金属双面切割方法,包括以下步骤:切割标记制作步骤:多个产品单元排列后整体包封为一板,每个产品单元的内部包封有半导体器件、金属块和焊盘,金属块暴露在包封顶面,焊盘暴露在包封底面,根据板内图形进行等比例涨缩,采用激光烧制定位孔和双面切割辅助线,形成切割对位标记;半切步骤:将板底面粘附在粘接膜上进行单面固定,使用刀片A在切割道进行板顶面的垂直半切工艺,金属块厚度≤半切深度≤1.5倍的金属块厚度,防止金属拉丝毛刺超标;本申请采用激光板边制造通孔,激光烧制双面对位切割线,切割精准,单面半切后反面终切流程,双面毛刺高度在标准范围内,实现产品的侧面焊接要求。

主权项:1.一种封装体露金属双面切割方法,其特征在于,包括以下步骤:切割标记制作步骤:多个产品单元排列后整体包封为一板,每个产品单元的内部包封有半导体器件、金属块和焊盘,金属块暴露在包封顶面,焊盘暴露在包封底面,根据板内图形进行等比例涨缩,采用激光烧制定位孔和双面切割辅助线,形成切割对位标记;半切步骤:将板底面粘附在粘接膜上进行单面固定,使用刀片A在切割道进行板顶面的垂直半切工艺,金属块厚度≤半切深度≤1.5倍的金属块厚度,防止金属拉丝毛刺超标;翻转终切步骤:切割后从粘接膜上将板剥离并上下翻转,此时板半切顶面粘接在粘接膜上,使用刀片B在对应切割道进行板底面的垂直终切工艺,切至半切端部停止,此时板分离为多个产品单元,金属块和焊盘与包封面同一侧面齐平并外露,终切无需切到粘接膜,避免切割残胶。

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权利要求:

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