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申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

摘要：公开了一种抗蚀剂底层组合物，其包括：聚合物，所述聚合物具有聚合物主链和侧接到所述聚合物主链的取代或未取代的富勒烯基团；和溶剂，其量基于总的抗蚀剂底层组合物为50至99.9重量％。

主权项：1.一种抗蚀剂底层组合物，其包含：聚合物，所述聚合物包含聚合物主链以及侧接到所述聚合物主链的取代或未取代的富勒烯基团，和键合至所述聚合物主链和所述富勒烯基团的连接基团，以及溶剂，其量基于总的抗蚀剂底层组合物为50至99.9重量％，其中，所述连接基团由式1或式2表示：式1 其中，在式1中，R1至R5各自独立地是氢、氘、取代或未取代的C1-20直链或支链的烷基、取代或未取代的C6-20芳基、取代或未取代的C7-20芳基烷基、取代或未取代的C3-20杂芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C3-30杂环烷基、C1-20烷氧基、羟基、-NH2；-NRR'其中R和R'独立地是氢或C1-20直链或支链的烷基、异氰酸酯基团、卤素、-ROR'其中R是取代或未取代的C1-20亚烷基并且R'是氢或C1-20直链或支链的烷基、-RC＝OX其中R是取代或未取代的亚烷基并且X是卤素、-C＝OOR'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基、-OC＝OR'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基、-CN、-OC＝ONRR'其中R和R'独立地是氢或C1-20直链或支链的烷基、-S＝OR'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基，以及-S＝O2R'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基，前提是每个R5不是氢，选自R1至R5的任何两个相邻基团能连接以形成环；n1是0、1、2或3；**指示与所述聚合物主链的直接或间接附接点；并且*指示与所述富勒烯的附接点；式2 其中，在式2中，R2至R5各自独立地是氢、氘、取代或未取代的C1-20直链或支链的烷基、取代或未取代的C6-20芳基、取代或未取代的C7-20芳基烷基、取代或未取代的C3-20杂芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C3-30杂环烷基、C1-20烷氧基、羟基、-NH2；-NRR'其中R和R'独立地是氢或C1-20直链或支链的烷基、异氰酸酯基团、卤素、-ROR'其中R是取代或未取代的C1-20亚烷基并且R'是氢或C1-20直链或支链的烷基、-RC＝OX其中R是取代或未取代的亚烷基并且X是卤素、-C＝OOR'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基、-OC＝OR'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基、-CN、-OC＝ONRR'其中R和R'独立地是氢或C1-20直链或支链的烷基、-S＝OR'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基、以及-S＝O2R'其中R'是氢或C1-20直链或支链的烷基，前提是每个R5不是氢，选自R2至R5的任何两个相邻基团任选地连接以形成环；n1是0、1、2或3；**指示与所述聚合物主链的直接或间接附接点；并且*指示与所述富勒烯的附接点。

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权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 抗蚀剂底层组合物及使用此类组合物的图案形成方法