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申请/专利权人：太仓享米科技发展有限公司
摘要：本发明涉及一种集成式单光子源检测分析装置，包括：样品显微成像和光激励区域，用于实现对样品的显微成像观测和样品光微区范围的精确激励；样品荧光的准单波长筛选和探测区域，用于对样品光的某一待测频率进行精确筛选和监控，并通过机械调节使其传播至后续的光子二阶相干性分析区域；光子的二阶相干性分析区域，用于对样品准单色光进行光子的二阶相干性分析，基于单光子源的连续非同时特性，在矫正时延后经由记录探测到光子的时间差并记录信号，结合二阶自相关函数分析可以获得被测样品的光子二阶相干性的具体大小。本发明能够在紧凑的条件下实现对样品微区的荧光信号直接进行同步成像和光子二阶相干性分析。
主权项：1.一种集成式单光子源检测分析装置，其特征在于，包括：样品显微成像和光激励区域1，用于实现对样品的显微成像观测和样品光微区范围的精确激励；样品荧光的准单波长筛选和探测区域2，用于对样品光的某一待测频率进行精确筛选和监控，并通过机械调节使其传播至后续的光子二阶相干性分析区域；光子的二阶相干性分析区域3，用于对样品准单色光进行光子的二阶相干性分析，基于单光子源的连续非同时特性，在矫正时延后经由记录探测到光子的时间差并记录信号，结合二阶自相关函数分析可以获得被测样品的光子二阶相干性的具体大小。
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百度查询： 太仓享米科技发展有限公司 一种集成式单光子源检测分析装置
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