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申请/专利权人:一道新能源科技股份有限公司
摘要:本实用新型公开一种改善poly硅均匀性的疏密孔弥散板,包括板体,板体安装在低压化学气相沉积炉管中,板体为圆弧形结构,板体上开设有若干个气孔,若干个气孔呈阵列布置;板体分为疏孔段和密孔段,低压化学气相沉积炉管中的炉尾出气管、炉中出气管均设置于板体的下方,炉尾出气管的出气端与疏孔段对应设置,炉中出气管的出气端与密孔段对应设置;疏孔段与密孔段上气孔的数量比为1:2‑3。本实用新型设置在低压化学气相沉积炉管中,可以减少出气口对硅片的直接冲击,反应气体利用疏密孔弥散板打散,从而达到改善poly硅均匀性的目的。
主权项:1.一种改善poly硅均匀性的疏密孔弥散板,其特征在于,包括板体21,所述板体21安装在低压化学气相沉积炉管1中,所述板体21为圆弧形结构,所述板体21上开设有若干个气孔22,若干个所述气孔22呈阵列布置;所述板体21分为疏孔段211和密孔段212,所述低压化学气相沉积炉管1中的炉尾出气管3和炉中出气管4均设置于所述板体21的下方,所述炉尾出气管3的出气端与所述疏孔段211对应设置,所述炉中出气管4的出气端与所述密孔段212对应设置;所述疏孔段211与所述密孔段212上所述气孔22的数量比为1:2-3。
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