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一种等离子体处理装置 

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申请/专利权人:中微半导体设备(上海)股份有限公司

摘要:本发明提供一种等离子体处理装置,其包含:真空反应腔,其内有可升降下电极组件,真空反应腔底壁设有射频屏蔽基板;射频导杆,其顶端与下电极组件下方电连接;可伸缩密封组件,其沿射频导杆的轴向伸缩,且设在可升降下电极组件和真空反应腔底壁之间;屏蔽传动组件,采用金属制成,用于带动可升降下电极组件移动,其包括:传动杆,其顶端与可升降下电极组件固定连接;法兰盘,其无缝套设在传动杆上;可伸缩屏蔽件,其环绕传动杆的周向设置,顶端与法兰盘电连接,底端与射频屏蔽基板电连接。其优点是:屏蔽传动组件具备高抗拉强度、高螺纹硬度的特性,延长了传动杆的使用寿命,且实现了射频屏蔽,有效防止射频泄露造成的设备损伤。

主权项:1.一种等离子体处理装置,其特征在于,包含:真空反应腔,其内部设置有可升降下电极组件,所述真空反应腔底壁设置有射频屏蔽基板;射频导杆,其顶端与所述下电极组件下方电连接;可伸缩密封组件,其沿所述射频导杆的轴向上下伸缩,且设置在所述可升降下电极组件和所述真空反应腔底壁之间,将所述真空反应腔分隔成真空侧和大气侧;屏蔽传动组件,采用金属制成,用于带动所述可升降下电极组件移动,其包括:传动杆,其顶端与所述可升降下电极组件固定连接;法兰盘,其无缝套设在所述传动杆上;可伸缩屏蔽件,其环绕所述传动杆的周向设置,顶端与所述法兰盘电连接,底端与所述射频屏蔽基板电连接。

全文数据:

权利要求:

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