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用于照射调整的方法和设备 

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申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

摘要:系统和方法提供用以减轻在量测工具的物镜中存在的线性彗差和或偏移彗差的能力。一种减小量测设备中的偏移彗差的效应的方法包括旋转所述量测设备的物镜元件,直到确定针对量测目标的实体上分离的第一部分和第二部分的最佳对比度为止。一种减小量测设备中的线性彗差的效应的方法包括:确定在所述量测设备的透镜系统中存在的轴向对称彗差的量;和在轴向z方向上移动所述透镜系统的光学元件以减小所确定的轴向对称彗差。可以在所述z方向上移动透镜光阑或其它透镜元件以减小彗差。可以组合所述两种方法。

主权项:1.一种减小量测设备中的偏移彗差的效应的方法,其中,对于具有彼此分离的第一部分和第二部分的基于衍射的重叠目标,在第一衬底z位置处获得针对所述第一部分的最佳对比度,并且在不同于所述第一衬底z位置的第二衬底z位置处获得针对所述第二部分的最佳对比度,所述方法包括:旋转所述量测设备的物镜元件,直到在不同于所述第一衬底z位置和第二衬底z位置的单个衬底z位置处实现针对所述第一部分和第二部分的最佳对比度为止。

全文数据:

权利要求:

百度查询: ASML荷兰有限公司 用于照射调整的方法和设备

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