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申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本发明公开了一种晶圆落片的监控装置、监控方法，以及薄膜沉积设备。监控装置包括：图像采集组件，至少包括两组摄像头；以及测距组件，至少包括两组雷达，其中，第一摄像头和第一雷达设置于反应腔内的第一侧壁，第二摄像头和第二雷达设置于与所述第一侧壁相隔预设角度的第二侧壁，所述第一摄像头和所述第二摄像头围绕所述反应腔内的晶圆托盘形成电子围栏，用以根据所述电子围栏构成的虚拟边界监测所述晶圆在所述晶圆托盘上的落片位置，所述第一雷达和所述第二雷达用以在所述晶圆完成落片后，获取其晶圆边缘与所述第一侧壁和所述第二侧壁的距离。通过上述监控装置，能够对晶圆在反应腔内的晶圆托盘上的落片位置进行实时监控，以及精准定位。
主权项：1.一种晶圆落片的监控装置，其特征在于，包括：图像采集组件，至少包括两组摄像头；以及测距组件，至少包括两组雷达，其中，第一摄像头和第一雷达设置于反应腔内的第一侧壁，第二摄像头和第二雷达设置于与所述第一侧壁相隔预设角度的第二侧壁，所述第一摄像头和所述第二摄像头围绕所述反应腔内的晶圆托盘形成电子围栏，用以根据所述电子围栏构成的虚拟边界监测所述晶圆在所述晶圆托盘上的落片位置，所述第一雷达和所述第二雷达用以在所述晶圆完成落片后，获取其晶圆边缘与所述第一侧壁和所述第二侧壁的距离。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 一种晶圆落片的监控装置、监控方法及薄膜沉积设备
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