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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本公开提供一种成膜装置和成膜方法，能够抑制成膜的制造成本和基板的热历程并且使膜质进一步提高。成膜装置包括：处理容器；基板保持部，其在所述处理容器内保持基板；气体供给部，其能够向所述处理容器内供给处理气体和吹扫气体；以及控制部，其控制所述气体供给部的动作。所述气体供给部具备向所述处理容器内供给所述吹扫气体的气体供给喷嘴。所述气体供给喷嘴具有能够对所述吹扫气体进行加热的加热机构。在向所述处理容器供给所述吹扫气体的工序中，所述控制部使所述加热机构动作，来对将从所述气体供给喷嘴喷出的所述吹扫气体进行加热。
主权项：1.一种成膜装置，包括：处理容器；基板保持部，其在所述处理容器内保持基板；气体供给部，其能够向所述处理容器内供给处理气体和吹扫气体；以及控制部，其控制所述气体供给部的动作，其中，所述气体供给部具备向所述处理容器内供给所述吹扫气体的气体供给喷嘴，所述气体供给喷嘴具有能够对所述吹扫气体进行加热的加热机构，在向所述处理容器供给所述吹扫气体的工序中，所述控制部使所述加热机构动作，来对将从所述气体供给喷嘴喷出的所述吹扫气体进行加热。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 成膜装置和成膜方法
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